Bismillah..
 |
| Clean Room |
Pertama kali tiba di NTUST (National Taiwan University of Science and Technology), Taiwan, setahun yang lalu, clean room adalah ruangan yang mengesankan bagi saya. Bagaimana tidak, ini merupakan ruangan riset yang sangat langka di Indonesia (setahu saya hanya ada satu institut pendidikan di Indonesia yang punya ruangan ini). Semua banyangan akan riset (yang sebelumnya tidak pernah ada) melayang-layang.. (hehe.. terlalu hiperbolik)
Bagi yang pernah tahu atau membaca tentang fabrikasi semikonduktor mungkin kata 'clean room' bukan kata yang asing. Sebenarnya apasih clean room itu? Clean room ini merupakan sebuah ruangan yang biasa digunakan untuk riset ilmiah atau fabrikasi semikonduktor yang memiliki tingkat polutan yang rendah seperti debu, partikel aerosol, dan uap-uap kimia. Gunanya tingkat polutan yang rendah ini agar chip atau device yang diproduksi nantinya bebas dari polutan, karena ukuran device ini bisa lebih kecil dari polutan/debu yang ada di udara.
Umumnya clean room memiliki klasifikasi tertentu. Contohnya begini, jika umumnya udara yang ada di luar ruangan memiliki 35.000.000 partikel per meter persegi dengan ukuran partikel 0,5 μm. Sedangkan clean room, yang memiliki klasifikasi ISO 1, hanya mengijinkan 12 partikel per meter persegi dengan ukuran partikel 0,3 μm atau lebih kecil (untuk lebih detailnya coba lihat tabel di bawah).
Tabel 1. Selected ISO 209 airborne particulate cleanliness classes for clean rooms and clean zones.
numbers (N) Maximum concentration limits (particles/m^3 of air) for particles equal to and larger than the considered sizes shown below
0.1m m
0.2m m
0.3m m
0.5m m
1m m
5.0m m
ISO 1
ISO 2
ISO 3
ISO 4
ISO 5
ISO 6
ISO 7
ISO 8
ISO 9
sumber: http://www.mssl.ucl.ac.uk
untuk standard lainnya juga bisa dilihat di link itu
Kembali ke masalah lab. Sebenarnya clean room ini bukan milik lab kami sendiri tapi join dengan beberapa lab lain. Setiap lab punya jatahnya tiap minggu per bulan. Di clean room ini ada beberapa alat, seperti RF magnetron sputtering, photolitography, dll.
 |
| RF Magnetron Sputerring |
 |
| Pressure Control |
 | |
| Pemasangan 'target' |
RF sputtering ini gunanya untuk membuat lapisan thin film di substrate. Kalau Prof. Joe Green , Prof di bidang thin films yg jadi reviewer di Jurnal Thin Solid Films, pernah bilang di kuliah singkatnya di Taiwan. Sebenarnya sputtering itu cuma transfer momentum sehingga target bisa menumbuk substrate dan jadilah thin films.
 |
| Suasana Clean Room |
Masih kata Prof. Joe Green, "Kelebihan dari teknologi sputtering ini sebenarnya ada di kemudahannya, jika kita bandingkan dengan coating thin film dengan proses lainnya, seperti evaporasi dan proses kimia. Sehingga banyak industri yang menggunakan teknologi sputter ini. Selain itu, dengan teknologi ini deposit thin films lebih dapat dikontrol dan prosesnya berlangsung pada suhu yang relatif rendah."
Untuk tahu teknologi sputtering ini, bisa di klik link ini.
Bersambung...
Semoga bermanfaat,
Tomy Abuzairi
Taipei, 08 Des 2011
Sedikit Kenangan Sebelum Lulus
.JPG)
, Taiwan, setahun yang l...){kind=link}
0 komentar:
Post a Comment